一、市场战略调整背景
在全球光刻机市场竞争激烈的背景下，尼康的市场份额仅占7%，面临着来自ASML（62%）和佳能（31%）的严峻挑战。近期，尼康的业绩压力愈发显著，预计2023财年净利润将同比减少22%至350亿日元，精机业务的低迷成为其主要困境。
二、技术竞争中的挑战与劣势
尼康在极紫外（EUV）设备的研发上未能赶超ASML，且因技术路线的分散，缺乏具有优势的市场领域。目前，ASML已垄断了EUV设备的生产。面对这样的技术竞争劣势，尼康急需寻找突破。
三、核心策略与产品布局调整
面对挑战，尼康决定采取以下核心策略：聚焦成熟制程技术。在不违反出口管制的前提下，推出基于i-line光源技术的光刻机，以适应成熟制程的需求。尼康计划于2024年夏季推出新款光刻机，这是时隔24年来首次发布光刻机新产品，目标市场直指中国大陆。
四、中国市场定位与布局
在中国市场，尼康紧密与政策走向相结合，确保设备符合出口管制要求。在美国对华限制EUV设备出口的背景下，尼康瞄准中国成熟制程市场的需求，与佳能形成差异化竞争。这将为尼康在中国市场打开新的机遇。
五、长期目标及挑战展望
尼康希望通过在中国市场的深耕，重振其光刻机业务的辉煌。技术代差和ASML的持续领先仍是其主要障碍。若能在中国市场取得成功，将为其在半导体设备领域争取更大的生存空间。尼康必须不断投入研发，持续创新，才能在竞争激烈的市场中立足。这场较量不仅是市场份额的争夺，更是企业未来的生存与发展之战。我们期待尼康在未来能够打破技术壁垒，实现其长期目标。
